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产品简介
产品简介：H09510 匀胶仪旋涂仪 主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。 H09510 高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。
产品分类
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2026-01-232025-12-232025-11-242025-10-24| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 能源,电子/电池,道路/轨道/船舶,汽车及零部件,电气 |
旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机 型号:H09510
产品简介：H09510 匀胶仪旋涂仪
主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。
H09510 高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。
H09510 高性能匀胶机旋涂仪 可在科研，教育，生产中应用。
"spin coater " 行业称：匀胶机 匀胶台 甩胶机、旋涂仪 旋转涂膜机 旋涂机
产品型号：
H09510 匀胶机
H09510 匀胶机： 工作腔内径D290mm 适合直径D10mm-280mm园片及 200mmX200mm方形片。
主要特点：
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 高精度26程序控制器：
可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程；
每个涂敷工艺过程可以设置51步不同的速度状态；
加速度（及负加速度），可设置。
中英文两套操作系统供选择。
操作系统内驻留涂敷工艺过程模板程序，方便快速调试并存储程序。
设置程序：国际标准通用符号，6键操作，人机交互式对话，提示操作。
无需培训，上手就会操作。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 可连接滴胶机，自动控制在必要的瞬间滴胶，自动控制重复定量滴胶。
精准的重复的自动控制操作，是人工不可能及的。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 工作腔可氮气保护。
我们设备通过有效的惰性气体保护机构设计，对所有的环境变量（温度，湿度，洁净度）有效控制，
这一点针对科研实验的苛刻要求而开发。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 真空吸片，爪卡机构。2种工作状态随意选择。 爪卡机构工作状态无需真空泵。方便有空隙的材料及厚重材料涂胶。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 中心结构定位：圆形基片使用工具完成中心定位。方便快捷，定位精度高。
主机标准配备一片真空吸盘即可满足（H09510 适用3英寸-11英寸基片）；（TA-360适用3英寸-14英寸基片）。
小于3英寸可使用定制真空吸盘。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 卡盘，吸盘品种丰富，适应各种需要。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 真空吸片系统更安全：
安装有真空度传感器，涂敷工作过程电脑实时检测系统真空度，必须在安全的真空度下，
电机启动，运行。保障可靠吸片，不飞片。运行中失去真空，系统保护性停机。
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 伺服电机，转速精度更高：300 - 10000 转/分，转速稳定性：+ - 0.1 % 最高转速10000转/分
*H09510 高性能匀胶机旋涂仪 设备所用的天然聚丙烯（NPP）材质，食品级卫生材料，易清洁，材质性能稳定，绿色环保型实验室的。
技术参数：
单相交流电源：220V.50Hz
电机功率：200W
转数：300 - 10000 转/分。
可设定时间：1---9999秒。
标准包装：尺寸： 490mm宽 x 380mm深 x 310 mm高
中心定位
利用中心定位板，将基片在机器转轴中心定位。
中心定位板的孔位可以完成4，6，8，10英寸基片定位。完成匀胶。
2. 多工位真空冷镶嵌机 金相试验镶嵌机 型号:H09508
H09508 多工位真空冷镶嵌机金相试验镶嵌机
提供的浸渍性能，操作快速高效。特别适合用于多孔材料，例如裂纹失效分析试样，多孔铸件及复合物，电子元件，矿石，陶瓷和喷涂等试样。
H09508 多工位真空冷镶嵌机金相试验镶嵌机
浸渍
多孔试样的浸渍要求试样的孔及裂纹中没有空气，以方便后续材料微观结构分析以及缺陷观察。的方法就是在真空下浸渍。
H09508 真空冷镶嵌机确保试样的浸渍。
H09508 真空冷镶嵌机配备一个大容积真空室和一个容易操作的控制面板。浸渍材料通过一次性管道输送，快速高效的分布至各个镶样模中，没有泼溅污染。
H09508 真空冷镶嵌机
足够容纳多个 / 或大型试样的空间。
配备有一个大容积真空室。D282X140mm
直径280mm的镶样模对大型试样进行浸渍。
实用的镶样模架上可放置多达9个镶样模。
当使用50mm直径模具时，可以同时安装9个。
实用的镶样模架在真空室内可以缓慢旋转。方便浇铸浸渍。
H09508 多工位真空冷镶嵌机金相试验镶嵌机
易于操作
轻巧入口管实现镶嵌样模的装填。
易读取的真空表;
轻触键,方便客户操作。
透过透明盖清晰观察浸渍过程
一次性耗材确保操作人员的安全性，并减少清洁工作量。
容易操作的控制面板
H09508 真空冷镶嵌机，通过触摸来操作。压力表显示当前压力
外形结构尺寸：500 x350x350mm
电源电压 单项交流 220V/50Hz
极限真空： -0.098MPa
3.半导体晶片甩干机 型号:H09504
功能：
用于半导体晶片高速旋转干燥。
机理：
高速旋转使半导体晶片充分与空气接触，快速干燥。
参数：
转速可设置范围：300-8000/分
时间可设置范围：2*999秒
基片适用范围：10mm-150mm.
结构：半导体晶片卡装。
3. 真空冷镶嵌机 型号:H09503
产品型号：H09503
产品简介：用于多孔试样镶嵌，微型试样镶嵌：
尤其是线路板、带有微细孔的各种材料的镶嵌。
在工业中，还可与染色剂配合，用于各种缺陷的检查。
它的原理是把空气从孔隙中吸出，再利用大气压的作用把镶嵌料或染色剂压
进微细孔。
还适用于将试样粘贴到载片上制作薄片试样
主要特点：
*真空室较大，可同时浸渍或镶嵌多个试样。
*真空室透明，方便观察镶嵌成型过程。
*真空室有一定厚度的有机玻璃制造，不易破碎，远比普通玻璃真空室要坚固，安全。
* 操作简便，外置柱状装置对导料管夹紧，操作简单，阻断可靠
配合使用一次性耗材，
*设置料杯安放架，防止料杯倾覆，防止污染桌面，更人性化。
*内置真空泵,采用新技术:保证不回油,不污染样品.不产生油雾, 不污染室内环境.
（普通旋片式真空泵，可能回油，真空油反流到真空室，污染标本，操作失败。
普通旋片式真空泵，工作过程中，由于高速旋转及摩擦生热两种原因产生油雾，
污染室内环境。 影响身体健康。
镶嵌室底部由食品级有机材料制成，从而便于清洁,而且不会粘附废浸渍液
技术参数：真空度：-0.09MPa
电源: 交流 220V .
产品规格：350mm宽 x300mm深 x280mm 高
5.浸渍提拉涂敷机/匀胶机 型号H09502
产品简介：
浸渍提拉涂敷法：（简述）
把需要涂敷的基片浸入溶液中，通过预先设置的速度，在一定的温度和空气环境下将基片慢慢提拉起来，
在基片的表面形成薄膜。膜层厚度由提拉速度，固体含量和液体粘度决定。用溶胶凝胶的方式涂敷成膜，
空气会使溶剂挥发，而溶剂挥发，又会进一步促使溶胶脱稳，使其进入凝胶过程，由于溶剂胶中的微小粒子（纳米级），
最后会形成透明的薄膜。提拉涂敷法适用于基片比较大，异形几何体，两面及多面涂敷成膜的情况。
主要用于材料浸入液体，胶体中经提拉在表面形成薄膜，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，木材，
金属等所有固体材料表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。
"dip coater"行业称：提拉机 提拉涂覆机
主要特点：
* 计算机控制运行，运行参数记忆，一键复位，保障试验过程可重复。
实时状态（距离mm,时间h:min:sec）数据显示，方便观察实验现象。到位自动停机，声音报告。
* 高精度直线导轨控制运行轨迹，保障运行轨迹的精确直线性。
* 2个工作位：可安放2个烧杯，内盛不同粘度的胶体。
每个工作位可夹持1个以上的“玻片"。工作效率更高。
* 弹簧夹持“玻片"，结构更简单，操作更方便。
技术参数：
单相交流电源：220V.50Hz
功率：30W
最快直线速度：300mm/min
最慢直线速度：5.9X10-7 m/sec （1毫米/0.47小时）
有效提拉高度：128mm
可设定 时间：1秒----9小时59分59秒
以上参数资料与图片相对应
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